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  1. 所属別コンテンツ
  2. ハリス理化学研究所
  3. 紀要論文
  4. 同志社大学ハリス理化学研究報告
  5. 64(4)
  1. 紀要論文
  2. 研究所
  3. 同志社大学ハリス理化学研究報告
  4. 64(4)

Pressure dependence of current-voltage characteristics of a thin hole hollow cathode

https://doi.org/10.14988/0002000181
https://doi.org/10.14988/0002000181
6cd26534-9e03-4d46-833a-aff0708e2f29
名前 / ファイル ライセンス アクション
023064040004.pdf 023064040004.pdf (844.9KB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2023-12-27
タイトル
タイトル Pressure dependence of current-voltage characteristics of a thin hole hollow cathode
言語 en
言語
言語 eng
キーワード
主題 plasma process, hollow cathode, TiO2
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
ID登録
ID登録 10.14988/0002000181
ID登録タイプ JaLC
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 Montallana, Arantxa Danielle S.

× Montallana, Arantxa Danielle S.

WEKO 31151

en Montallana, Arantxa Danielle S.


Search repository
Vasquez, Magdaleno R., Jr.

× Vasquez, Magdaleno R., Jr.

WEKO 2303
CiNii ID 8000000549294
ORCID 0000-0002-2208-428X

en Vasquez, Magdaleno R., Jr.

Search repository
和田, 元

× 和田, 元

WEKO 15436
CiNii ID 1000030201263
e-Rad_Researcher 30201263
ORCID 0000-0001-9611-2004
AID DA16505174

en Wada, Motoi

ja 和田, 元

ja-Kana ワダ, モトイ

Search repository
著者所属
言語 ja
値 Montallana, Arantxa Danielle S. / 同志社大学理工学研究科電気電子工学専攻
著者所属
言語 ja
値 Vasquez, Magdaleno R., Jr. / フィリピン大学ディリマン校准教授
著者所属
言語 ja
値 Wada, Motoi / 同志社大学理工学部電気工学科教授
著者所属(英)
言語 en
値 Montallana, Arantxa Danielle S. / Graduate School of Science and Engineering, Doshisha University
著者所属(英)
言語 en
値 Vasquez, Magdaleno R., Jr. / Department of Mining, Metallurgical, and Materials Engineering, College of Engineering, University of the Philippines
著者所属(英)
言語 en
値 Wada, Motoi / Graduate School of Science and Engineering, Doshisha University
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 チタニア(TiO2)ナノ構造がプラズマに基づいた合成過程により実現可能である.真空装置への複雑なチタニア粉末の導入に基づいた生成過程ではなく,純粋チタン陰極からの直接スパッター法により,TiO2薄膜を形成する方法も有効と考えられる.12mm長,0.7mm系の細孔を有する直径12mmのチタン電極を用いて,圧力10から100Paのアルゴン雰囲気化で安定に放電形成することができた.薄膜形成系に本電極を挿入することによって得られる粒子フラックスを評価し,また装置の運転状態を,薄膜堆積ターゲットを模した電極を挿入して電流電圧特性を得ることによってモニターすることの有効性について調査した.
言語 ja
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 A Ti hollow cathode electrode with a 0.7 mm aperture was designed to examine its performance in Ar discharge production and its potential as a sputter source for the formation of TiO2. The electrode demonstrated excellent stability against high-voltage break down and was able to sustain Ar discharge in the pressure range from 10 to 100 Pa. The steady state production of metallic particle flux is expected with enough cathode voltage to ensure a necessary sputtering yield. The source can generate the sputtered atom flux of the order of one monolayer per second and can serve as the Ti source for TiO2 atomic layer film preparation.
言語 en
内容記述
内容記述 原著論文
内容記述
内容記述 This work was supported in part by grants-in-aid for division research from the Harris Science Research Institute of Doshisha University.
書誌情報 ja : 同志社大学ハリス理化学研究報告
en : The Harris science review of Doshisha University

巻 64, 号 4, p. 191-197, 発行日 2024-01
出版者
出版者 同志社大学ハリス理化学研究所
言語 ja
出版者(英)
出版者 Harris Science Research Institute of Doshisha University
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 21895937
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA12716107
権利者情報
権利者識別子Scheme AID
権利者識別子URI https://ci.nii.ac.jp/author/DA18202107
権利者識別子 DA18202107
権利者名 同志社大学ハリス理化学研究所
言語 ja
権利者名 Harris Science Research Institute of Doshisha University
言語 en
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 565.54
研究代表者
寄与者タイプ ProjectLeader
寄与者識別子Scheme WEKO
寄与者識別子 15436
寄与者識別子Scheme CiNii ID
寄与者識別子URI http://ci.nii.ac.jp/nrid/1000030201263
寄与者識別子 1000030201263
寄与者識別子Scheme e-Rad_Researcher
寄与者識別子URI https://kaken.nii.ac.jp/ja/search/?qm=30201263
寄与者識別子 30201263
寄与者識別子Scheme ORCID
寄与者識別子URI https://orcid.org/0000-0001-9611-2004
寄与者識別子 0000-0001-9611-2004
寄与者識別子Scheme AID
寄与者識別子URI https://ci.nii.ac.jp/author/DA16505174
寄与者識別子 DA16505174
姓名 Wada, Motoi
言語 en
姓名 和田, 元
言語 ja
姓名 ワダ, モトイ
言語 ja-Kana
研究分担者
寄与者タイプ ProjectMember
寄与者識別子Scheme WEKO
寄与者識別子 17144
寄与者識別子Scheme CiNii ID
寄与者識別子URI http://ci.nii.ac.jp/nrid/1000010389009
寄与者識別子 1000010389009
寄与者識別子Scheme e-Rad_Researcher
寄与者識別子URI https://kaken.nii.ac.jp/ja/search/?qm=10389009
寄与者識別子 10389009
姓名 Kenmotsu, Takahiro
言語 en
姓名 剣持, 貴弘
言語 ja
姓名 ケンモツ, タカヒロ
言語 ja-Kana
助成情報
識別子タイプ Crossref Funder
助成機関識別子 https://doi.org/10.13039/501100001691
助成機関名 日本学術振興会
言語 ja
助成機関名 Japan Society for the Promotion of Science
言語 en
研究課題番号URI https://kaken.nii.ac.jp/ja/grant/KAKENHI-PROJECT-23K25855/2023/
研究課題番号 JP23H01158
研究課題番号タイプ JGN
研究課題名 低エネルギー水素の固体表面反射と吸着
言語 ja
研究機関識別子種別
値 ROR
研究機関識別子
値 https://ror.org/01fxdkm29
研究機関名
言語 ja
値 同志社大学
研究機関名(英)
言語 en
値 Doshisha University
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Ver.1 2023-12-26 04:58:43.526098
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