WEKO3
アイテム
Water vapor in DC reactive magnetron sputtering plasma : characteristics and applications
https://doi.org/10.14988/0002000098
https://doi.org/10.14988/000200009870ee063b-c7e7-485f-adbf-fac8a3486a60
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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要旨/abstract (306KB)
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全文/fulltext (24.2 MB)
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| アイテムタイプ | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2023-10-18 | |||||||||||
| タイトル | ||||||||||||
| タイトル | Water vapor in DC reactive magnetron sputtering plasma : characteristics and applications | |||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||
| 言語 | ||||||||||||
| 言語 | eng | |||||||||||
| 言語 | ||||||||||||
| 言語 | jpn | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題 | reactive magnetron sputtering, plasma-material science, plasma diagnostics | |||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||||||||
| ID登録 | ||||||||||||
| ID登録 | 10.14988/0002000098 | |||||||||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||||||||
| アクセス権 | ||||||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||||||
| その他（別言語等）のタイトル | ||||||||||||
| その他のタイトル | 反応性マグネトロンスパッタリングプラズマ中の水蒸気 : 特徴と応用 | |||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||
| その他（別言語等）のタイトル | ||||||||||||
| その他のタイトル | ハンノウセイ マグネトロン スパッタリング プラズマチュウ ノ スイジョウキ : トクチョウ ト オウヨウ | |||||||||||
| 言語 | ja-Kana | |||||||||||
| 著者 |
カタパング, アレン ビンセント バラボナ
× カタパング, アレン ビンセント バラボナ
WEKO
31069
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| 著者所属 | ||||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||
| 値 | 理工学研究科 | |||||||||||
| 著者所属（英） | ||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||
| 値 | Graduate School of Science and Engineering | |||||||||||
| 抄録 | ||||||||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||||||||
| 内容記述 | DC反応性マグネトロンスパッタリングにおける水蒸気プラズマを用いた酸化亜鉛薄膜の成膜について、薄膜成膜とプラズマソースでの検討を行いました。DCマグネトロンスパッタリングプラズマの特性は、ターゲット表面、基板蒸着領域、バルクプラズマの3つの重要な領域で詳細に調査しました。プラズマソースからの制御された輸送は、パルス化されたコンジットタイプの取り出し電極まで拡張しました。プラズマにさらされた表面への水の吸着とプラズマ中の負イオンの存在は、局所的なプラズマパラメータに大きな影響を与えました。 | |||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||
| 抄録 | ||||||||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||||||||
| 内容記述 | The deposition of zinc oxide thin films using water vapor plasma as the reactive gas in DC reactive magnetron sputtering was explored for thin film deposition and in a plasma source. The characteristics of the DC magnetron sputtering plasma was investigated at three key areas: at the target surface, the substrate deposition area, and the bulk plasma. Controlled transport from the plasma source was extended to a pulsed, conduit-type extraction electrode. The adsorption of water onto the surfaces exposed to plasma and the presence of negative ions in the plasma significantly affected the local plasma parameters. | |||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||
| 書誌レコードID | ||||||||||||
| 識別子タイプ | NCID | |||||||||||
| 関連識別子 | BD0849352X | |||||||||||
| 関連サイト | ||||||||||||
| 関連タイプ | isFormatOf | |||||||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||||||||
| 関連識別子 | https://doors.doshisha.ac.jp/opac/opac_link/bibid/BB13240488/?lang=0 | |||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||
| 関連名称 | 掲載刊行物所蔵情報へのリンク ／ Link to Contents | |||||||||||
| 出版タイプ | ||||||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||||||
| 学位名 | ||||||||||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||
| 学位名 | ||||||||||||
| 学位名 | Doctor of Philosophy in Engineering | |||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||
| 学位授与機関 | ||||||||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||||||||
| 学位授与機関識別子 | 34310 | |||||||||||
| 学位授与機関名 | 同志社大学 | |||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||
| 学位授与機関名 | Doshisha University | |||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||
| 学位授与年月日 | ||||||||||||
| 学位授与年月日 | 2023-09-20 | |||||||||||
| 学位授与番号 | ||||||||||||
| 学位授与番号 | 甲第1311号 | |||||||||||
