WEKO3
アイテム
Formation of silicon and silicides by new electrochemical processes
https://doi.org/10.14988/di.2017.0000016265
https://doi.org/10.14988/di.2017.000001626574ff0f11-6001-44fe-9795-9ce4acc859aa
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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| 公開日 | 2015-10-23 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Formation of silicon and silicides by new electrochemical processes | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||
| ID登録 | ||||||
| ID登録 | 10.14988/di.2017.0000016265 | |||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | open access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
| その他(別言語等)のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | 新たな電気化学手法によるシリコンおよびシリサイドの形成 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| その他(別言語等)のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | アラタナ デンキ カガク シュホウ ニヨル シリコン オヨビ シリサイド ノ ケイセイ | |||||
| 言語 | ja-Kana | |||||
| 著者 |
坂中, 佳秀
× 坂中, 佳秀 |
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| 著者所属 | ||||||
| 言語 | ja | |||||
| 値 | 理工学研究科 | |||||
| 著者所属(英) | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 値 | Graduate School of Science and Engineering | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 識別子タイプ | NCID | |||||
| 関連識別子 | BB19936683 | |||||
| 関連サイト | ||||||
| 関連タイプ | isFormatOf | |||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | https://doors.doshisha.ac.jp/opac/opac_link/bibid/BB12928048/?lang=0 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 関連名称 | 掲載刊行物所蔵情報へのリンク / Link to Contents | |||||
| 出版タイプ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 学位名 | ||||||
| 言語 | ja | |||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||
| 学位名 | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 学位名 | Doctor of Philosophy in Engineering | |||||
| 学位授与機関 | ||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||
| 学位授与機関識別子 | 34310 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 学位授与機関名 | 同志社大学 | |||||
| 言語 | en | |||||
| 学位授与機関名 | Doshisha University | |||||
| 学位授与年月日 | ||||||
| 学位授与年月日 | 2015-09-26 | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 学位授与番号 | 甲第744号 | |||||